涂胶显影设备分为offline和inline两种类型

1 ►涂胶显影设备分为offline和inline两种类型，主要区别在于联机状态、操作自动化程度、应用场景及设备分类。offline设备独立操作，适用于μm级别制程，分为前道工序和后道工序，涉及高端制程及封装环节；而inline设备则与光刻机联机，自动化程度高，适用于28nm及以上制程，分类依据包括光刻胶类型、光源波长及对应的纳米制程。 2 ►综合来看，低制程涂胶显影设备综合国产化率约为80%，高制程约为60%。具体从设备部件来看，LOADPORT、机器人、低端制程工艺下胶泵、热板及加热丝、片盒及最终单元国产化进程较快，已实现自研和量产，而电机、其他外构件（充当阀、过滤器、气缸）以及高端制程工艺下胶泵国产化进程较慢，仍主要依赖进口。 3 ►芯片制造厂商采购涂胶显影设备时，会权衡产线需求、制程、性价比、售后服务及市场环境。国产设备在中低端市场具优势，但高端制程仍待提升。